機能表面創成工学研究室 立命館大学理工学部機械工学科

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論文

  1. A. Tsuji, E. Morimoto, M. Takizawa, J. Murata*, Cu Direct Nanopatterning Using Solid-State Electrochemical Dissolution at the Anode/Polymer Electrolyte Membrane Interface, Advanced Materials Interfaces , 11 (2024), 2300896
  2. J. Murata*, K. Hayama, M. Takizawa, Environment-friendly electrochemical mechanical polishing using solid polymer electrolyte/CeO2 composite pad for highly efficient finishing of 4H-SiC (0001) surface, Applied Surface Science , 625 (2023), 157190
  3. A. Tsuji, P. Jia, M. Takizawa, J. Murata*, Improvement in the Polishing Characteristics of Titanium-Based Materials Using Electrochemical Mechanical Polishing, Surfaces and Interfaces , 35 (2022), 102490-102490
  4. P. Jia, R. Umezaki, J. Murata*, Direct micropatterning on a titanium surface through electrochemical imprint lithography with a polymer electrolyte membrane stamp
    , Microelectronic Engineering, 257 (2022), 111752
  5. S. Zulkifle, K. Hayama, J. Murata*, High-efficiency wafer-scale finishing of 4H-SiC (0001) surface using chemical-free electrochemical mechanical method with a solid polymer electrolyte, Diamond and Related Materials, 120 (2021), 108700
  6. R. Umezaki, J. Murata*, Electrochemical imprint lithography on Si surface using a patterned polymer electrolyte membrane, Materials Chemistry and Physics, 259(2021), 124081
  7. 村田順二*, 谷泰弘, 桐野宙治, 砥粒の滞留性に着目した微粒子添加ラッピングによる研磨特性の向上, 砥粒加工学会誌, 65(2021), 195
  8. J. Murata*, D. Nagatomo, Investigation of Electrolytic Condition on Abrasive-Free Electrochemical Mechanical Polishing of 4H-SiC Using Ce Thin Film, ECS Journal of Solid State Science and Technology, 9(2020), 034002
  9. J. Murata*, M. Kagawa, Photo-Assisted Chemical Mechanical Polishing of Si Wafer Using Phosphorescent Particles as a Luminescent Agent, ECS Journal of Solid State Science and Technology, 8(2019), 727
  10. J. Murata*, K. Goda, Abrasive-free surface finishing of glass using a Ce film, Journal of Materials Processing Technology, 265(2019), 56
  11. J. Murata*, Y. Nishiguchi,Takeshi Iwasaki, Liquid electrolyte-free electrochemical oxidation of GaN surface using a solid polymer electrolyte toward electrochemical mechanical polishing, Electrochemistry Communications, 97(2018), 110
  12. J. Murata*, K. Yodogawa, K. Ban, Polishing-pad-free electrochemical mechanical polishing of single-crystalline SiC surfaces using polyurethane–CeO2 core–shell particles, International Journal of Machine Tools and Manufacture, 114(2017), 1
  13. 一廼穂直聡*, 村田順二, 谷泰弘, 張宇, 複合砥粒を用いた研磨に適した研磨パッドの表面構造, 日本機械学会論文集, 82(2016), 15
  14. J. Murata*, Y. Ueno, K. Yodogawa, T. Sugiura, Polymer/CeO2-Fe3O4 multicomponent core-shell particles for high-efficiency magnetic-field-assisted polishing processes, International Journal of Machine Tools and Manufacture, 101(2016), 28
  15. 村田順二, 機械工学導入教育における精密研磨技術を題材とした創造的教育プログラム, 工学教育, 63(2015), 58
  16. J. Murata*, S. Sadakuni, Photo-electrochemical etching of free-standing GaN wafer surfaces grown by hydride vapor phase epitaxy, Electrochimica Acta, 171(2015), 89
  17. 村田順二*, 稲澤求, 谷泰弘,張宇, エポキシ樹脂研磨パッドの粘弾性と研磨特性, 日本機械学会論文集, 80(2014), SMM0253-1-11
  18. 村田順二*, 土田剛史, 谷泰弘,張宇, ワイヤ擦過援用ウェットエッチングによるシリコンの高アスペクト比溝形成 -シリコンインゴットの切断に向けた基礎的検討-, 日本機械学会論文集, 80(2014), SMM0183-1-10
  19. 張宇,谷泰弘*, 村田順二, 電着工具用の部分Ni被覆ダイヤモンド砥粒の開発, 日本機械学会論文集, 80(2014), SMM0111-1-12
  20. A. N. Hattori*, Ken Hattori, Y. Moriwaki, A. Yamamoto, S. Sadakuni, J. Murata, K. Arima, Y. Sano, K. Yamauchi, Hiroshi Daimon, Katsuyoshi Endo, Enhancement of photoluminescence efficiency from GaN(0001) by surface treatments, Japanese Journal of Applied Physics, 53(2014), 021001-1-5
  21. S. Sadakuni, J. Murata, Y. Sano, K. Yagi, S. Matsuyama, K. Yamauchi*, Bias-assisted photochemical planarization of GaN(0001) substrate with damage layer, Japanese Journal of Applied Physics, 52(2013), 036504-1-4
  22. 北井庸平, 村田順二, 谷泰弘*,張宇, エポキシ樹脂を適用したスエードパッドによるガラス研磨特性の向上, 日本機械学会論文集C編, 79(2013), 5019-5028
  23. 一廼穂直聡, 村田順二, 谷泰弘*, 張宇, 山田美幸, 楊原武, 滞留性を考慮した複合砥粒の開発とその研磨特性, 日本機械学会論文集（C編）, 78(2012), 2302-2311
  24. J. Murata*, S. Sadakuni, T. Okamoto, A. N. Hattori, K. Yagi, Y. Sano, K. Arima, K. Yamauchi, Structural and chemical characteristics of atomically smooth GaN surfaces prepared by abrasive-free polishing with Pt catalyst, Journal of Crystal Growth, 349(2012), 83-88
  25. T. Okamoto, Y. Sano, K. Tachibana, B. V. Pho, K. Arima, K. Inagaki, K. Yagi, J. Murata, S. Sadakuni, H. Asano, A. Isohashi, K. Yamauchi*, Improvement of Removal Rate in Abrasive-Free Planarization of 4H-SiC Substrates Using Catalytic Platinum and Hydrofluoric Acid, Japanese Journal of Applied Physics, 51(2012), 0406501-1-4
  26. J. Murata*, T. Okamoto, S. Sadakuni, A. N. Hattori, K. Yagi, Y. Sano, K. Arima, K. Yamauchi, Atomically Smooth Gallium Nitride Surfaces Prepared by Chemical Etching with Platinum Catalyst in Water, Journal of the Electrochemical Society, 159(2012), H417-H420
  27. S. Sadakuni, J. Murata, Y. Sano, K. Yagi, T. Okamoto, Kazuma Tachibana, Hiroya Asano, K. Yamauchi*, Atomically controlled chemical polishing of GaN using platinum and hydrofluoric acid, Physica Status Solidi (C), 9(2012), 433-435
  28. 李承福, 桐野宙治, 谷泰弘*, 村田順二, ガラス研磨における酸化セリウムの代替砥粒開発, 日本機械学会論文集C編, 78(2012), 2710-2719
  29. A. N. Hattori*, T. Okamoto, S. Sadakuni, J. Murata, H. Oi, K. Arima, Y. Sano, K. Hattori, H. Daimon, K. Endo, K. Yamauchi, Structure and Magnetic Properties of Mono- and Bi-Layer Graphene Films on Ultraprecision Figured 4H-SiC(0001) Surfaces, Journal of Nanoscience and Nanotechnology, 11(2011), 2897-2902
  30. T. Okamoto, Y. Sano, Kazuma Tachibana, K. Arima, A. N. Hattori, K. Yagi, J. Murata, S. Sadakuni, K. Yamauchi*, Dependence of Process Characteristics on Atomic-Step Density in Catalyst-Referred Etching of 4H-SiC(0001) Surface, Journal of Nanoscience and Nanotechnology, 11(2011), 2928-2930
  31. S. Sadakuni, J. Murata, K. Yagi, Y. Sano, T. Okamoto, Arima Kenta, A. N. Hattori, K. Yamauchi*, Efficient Wet Etching of GaN (0001) Substrate with Subsurface Damage Layer, Journal of Nanoscience and Nanotechnology, 11(2011), 2979-2982
  32. J. Murata*, Y. Shirasawa, Y. Sano, S. Sadakuni, K. Yagi, T. Okamoto, A. N. Hattori, K. Arima, K. Yamauchi, Improved Optical and Electrical Characteristics of Free-Standing GaN Substrates by Chemical Polishing Utilizing Photo-Electrochemical Method, Journal of Nanoscience and Nanotechnology, 11(2011), 2882-2885
  33. A. N. Hattori*, T. Okamoto, S. Sadakuni, J. Murata, K. Arima, Y. Sano, Ken Hattori, H. Daimon, K. Endo, K. Yamauchi, Formation of wide and atomically flat graphene layers on ultraprecision-figured 4H-SiC(0001) surfaces, Surface Science, 605(2011), 597-605
  34. T. Okamoto, Y. Sano, Kazuma Tachibana, K. Arima, A. N. Hattori, K. Yagi, J. Murata, S. Sadakuni, K. Yamauchi*, Abrasive-free planarization of 3-inch 4H-SiC substrate using catalyst-referred etching, Material Science Forum, 679-680(2011), 493
  35. S. Sadakuni, Ngo Xuan Dai, Y. Sano, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, T. Okamoto, Kazuma Tachibana, K. Yamauchi*, TEM observation of 8 deg off-axis 4H-SiC (0001) surfaces planarized by catalyst-referred etching, Material Science Forum, 679-680(2011), 489
  36. S. Sadakuni, J. Murata, K. Yagi, Y. Sano, K. Arima, T. Okamoto, K. Tachibana, K. Yamauchi*, Influence of gallium additives on surface roughness for photoelectrochemical planarization of GaN, Physica Status Solidi (C), 8(2011), 2223-2225
  37. 村田順二, 谷泰弘*, 広川良一, 野村信幸, 張 宇, 宇野純基, ガラス研磨用エポキシ樹脂研磨パッドの開発, 日本機械学会論文集C編, 77(2011), 2153-2161
  38. T. Okamoto, Y. Sano, H. Hara, T. Hatayama, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, S. Sadakuni, K. Tachibana, Y. Shirasawa, H. Mimura, T. Fuyuki, K. Yamauchi*, Reduction of surface roughness of 4H-SiC by catalyst-referred etching, Material Science Forum, 645-648(2010), 775
  39. S. Sadakuni, J. Murata, K. Yagi, Y. Sano, K. Arima, Azusa Hattori, T. Okamoto, K. Yamauchi*, Influence of the UV Light Intensity on the Photoelectrochemical Planarization Technique for Gallium Nitride, Material Science Forum, 645-648(2010), 795
  40. Y. Tani*, T. Kim, J. Murata, Y. Zhang, S. Sawayama, K. Tsutanaka, On-machine Method to Condition the Grinding Ability of Resin-Bond Wheels, Advanced Materials Research, 126-128(2010), 159-164
  41. 谷泰弘*, 宇田隆三, 楠本丈朗, 村田順二, 張 宇, 電鋳技術を適用した水晶研磨用極薄キャリアの開発, 日本機械学會論文集 C編, 76(2010), 3837-3842
  42. J. Murata*, S. Sadakuni, K. Yagi, Y. Sano, T. Okamoto, K. Arima, A. N. Hattori, H. Mimura, K. Yamauchi, Planarization of GaN(0001) Surface by Photo-Electrochemical Method with Solid Acidic or Basic Catalyst, Japanese Journal of Applied Physics, 48(2009), 121001
  43. J. Murata, A. Kubota, K. Yagi, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, T. Okamoto, H. Mimura, K. Yamauchi*, New chemical planarization of SiC and GaN using an Fe plate in H2O2 solution, Material Science Forum, 600-603(2009), 815
  44. T. Okamoto, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, H. Mimura, K. Yamauchi*, Damage-free Planarization of 2-inch 4H-SiC Wafer Using Pt Catalyst Plate and HF Solution, Material Science Forum, 600-603(2009), 835
  45. A. Kubota*, K. Yagi, J. Murata, H. Yasui, S. Miyamoto, H. Hara, Y. Sano, K. Yamauchi, A Study on a Surface Preparation Method for Single-Crystal SiC Using an Fe Catalyst, Journal of Electronic Materials, 38(2009), 159-163
  46. K. Yagi, J. Murata, A. Kubota, Y. Sano, H. Hara, T. Okamoto, K. Arima, H. Mimura, K. Yamauchi*, Catalyst-referred etching of 4H-SiC substrate utilizing hydroxyl radicals generated from hydrogen peroxide molecules, Surface and Interface Analysis, 40(2008), 998-1001
  47. J. Murata, A. Kubota, K. Yagi, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, T. Okamoto, H. Mimura, K. Yamauchi*, Chemical planarization of GaN using hydroxyl radicals generated on a catalyst plate in H2O2 solution, Journal of Crystal Growth, 310(2008), 1637-1641
  48. K. Yagi, J. Murata, A. Kubota, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, T. Okamoto, H. Mimura, K. Yamauchi*, Defect-free planarization of 4H-SiC(0001) substrate using reference plate, Japanese Journal of Applied Physics, 47(2008), 104-107
  49. K. Arima*, H. Hara, J. Murata, Takeshi Ishida, Ryota Okamoto, K. Yagi, Y. Sano, H. Mimura, K. Yamauchi, Atomic-scale flattening of SiC surfaces by electroless chemical etching in HF solution with Pt catalyst, Applied Physics Letter, 90(2007), 202106-1-3
  50. H. Hara, Y. Sano, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, A. Kubota, H. Mimura, K. Yamauchi*, Catalyst-referred etching of silicon, Science and Technology of Advanced Materials, 8(2007), 162-165
  51. K. Yagi*, J. Murata, H. Hara, Y. Sano, K. Yamauchi, H. Goto, Fabrication of damascene Cu wirings using solid acidic catalyst, Science and Technology of Advanced Materials, 8(2007), 166-169
  52. H. Hara, Y. Sano, H. Mimura, K. Arima, A. Kubota, K. Yagi, J. Murata, K. Yamauchi*, Damage-free planarization of 4H-SiC(0001) by catalyst-referred etching, Material Science Forum, 556-557(2007), 749
  53. H. Hara, Y. Sano, H. Mimura, K. Arima, A. Kubota, K. Yagi, J. Murata, K.Yamauchi*, Novel abrasive-free planarization of 4H-SiC (0001) using catalyst, Journal of Electronic Materials, 35(2006), L11-L14

学会発表

※更新中、2019年度以降のみ掲載

  1. 植村采奈，小川優姫菜，村田順二，高分子電解質膜を用いた電気化学的表面処理による濡れ性コントラストの作製，2023年度精密工学会秋季大会，2023年
  2. 辻淳喜，村田順二，固体電解質のイオン輸送を用いたCuの全固相電気化学パターニングにおける加工条件の影響，2023年度精密工学会秋季大会，2023年
  3. 山﨑克真，辻淳喜，村田順二，固体電解質膜を用いた電気化学インプリントにおけるパターン精度の向上，2023年度精密工学会秋季大会，2023年
  4. 稲田直希，村田順二，高分子電解質を用いたSiCの環境調和型ECMP，2023年度精密工学会秋季大会，2023年
  5. 中谷有志，村田順二，高分子電解質のイオン輸送を利用した固相電解加工によるCu平坦化，2023年度精密工学会秋季大会，2023年
  6. 巳波福也，村田順二，電解酸化を援用した触媒基準エッチングによる純銅の平滑化，2023年度精密工学会秋季大会，2023年
  7. 宮本健太，村田順二，ロール電極の適用による溶液フリー電気化学的インプリントリソグラフィ，2023年度精密工学会秋季大会，2023年
  8. 山﨑克真，松田竜樹，村田順二，高分子電解質膜を用いた電気化学インプリントの開発−アルカリエッチングの併用による微細構造制御−，精密工学会春季大会学術講演会，2023年
  9. 辻　淳喜，村田順二，固体電解質のイオン輸送を利用した Cuエッチングによる微細パターニング，精密工学会春季大会学術講演会，2023年
  10. 稲田直希，王　国棟，村田順二，高分子電解質を用いた SiC の高効率ECMP −高耐久性電解質パッドの作製−，精密工学会春季大会学術講演会，2023年
  11. 植村采奈，辻淳喜，村田順二，⾼分⼦電解質膜を⽤いた電気化学的表⾯処理による濡れ性パターンの作製，精密工学会春季大会学生会員卒業研究発表講演会，2023年
  12. 中谷有志，村田順二，山路恭平，ヒドロキシアパタイト固定化⾦属触媒を⽤いた炭化ケイ素の化学機械研磨，精密工学会春季大会学生会員卒業研究発表講演会，2023年
  13. 加洲大輔，Phung Tan Phuc，村田順二，磁気粘弾性エラストマーの研磨パッドへの応用，精密工学会秋季大会学術講演会，2022年
  14. 山路恭平，村田順二，機械加工への応用を目指したヤヌス粒子の開発−無電解 Ni-P めっきを用いた製造法の検討−，精密工学会秋季大会学術講演会，2022年
  15. 村島悠介，村田順二，高分子電解質膜を用いた電解加工による単結晶SiC 表面の微細構造作製，精密工学会秋季大会学術講演会，2022年
  16. 辻淳喜，村田順二，電気化学機械研磨を用いたチタン系材料の研磨特性の向上，精密工学会関西地方定期学術講演会，2022年
  17. 稲田直希，村田順二，高分子電解質を用いた半固定砥粒パッドによる SiC の ECMP 特性，精密工学会関西地方定期学術講演会，2022年
  18. 山崎克真，村田順二，高分子電解質膜を用いた電気化学インプリントによる単粒子膜構造の形成，精密工学会関西地方定期学術講演会，2022年
  19. 村田順二，固体電解質パットを用いたSiC研磨，応用物理学会 先進パワー半導体分科会　第１０回個別討論会，2022年
  20. 村田順二，固体電解質を用いた機能性材料の電気化学的表面創成～単結晶SiC基板の研磨を中心に～，第1回砥粒加工学会アフタヌーンセミナー　半導体・機能薄膜デバイス研磨技術の最新動向，2022年
  21. 村田順二，固体電解質を用いた電気化学的表面加工～SiCの研磨を中心に～，精密工学会関西支部2022年度 生産技術特別セミナー　－工作機械,切削,研削,加工計測,設計・生産システムの基礎と最新動向－，2022年
  22. 稲石翔馬，村田順二，磁性を有するハイブリッド研磨粒子の作製とサファイアの磁気援用研磨特性，精密工学会春季大会学術講演会，2022年
  23. 土田ひなの，村田順二，電解液を用いない電解加工—アルカリエッチングの併用によるパターン形成—，精密工学会春季大会学術講演会，2022年
  24. 松田竜樹，山﨑克真，村田順二，高分子電解質を用いた電気化学インプリントリソグラフィによる半導体ウェハのテクスチャリング，精密工学会春季大会学術講演会，2022年
  25. 清水昂平，Jia Pengfei，村田順二，高分子電解質を用いた固相電析法によるパターン Cu 薄膜の生成，精密工学会春季大会学術講演会，2022年
  26. 稲田直希，巴山顕真，村田順二，アルギン酸を結合剤とした半固定砥粒パッドのガラス研磨特性，精密工学会春季大会学生会員卒業研究発表講演会，2022年
  27. 山﨑克真，松田竜樹，村田順二，⾼分⼦電解質膜を⽤いた電気化学インプリントによる単粒⼦膜構造の形成，精密工学会春季大会学生会員卒業研究発表講演会，2022年
  28. 辻淳喜，Jia Pengfei，村田順二，電解援⽤研磨を⽤いたチタン系材料の平滑化，精密工学会春季大会学生会員卒業研究発表講演会，2022年
  29. 巴山顕真，稲田直希，村田順二，固体高分子電解質を含浸させた半固定砥粒工具によるSiCのECMP 特性，精密工学会秋季大会学術講演会，2021年
  30. 梅崎凌平，村田順二，高分子電解質を用いた電気化学インプリント技術の開発 —水分供給システムが加工特性に与える影響の検討—，精密工学会秋季大会学術講演会，2021年
  31. 森本英太，梅崎凌平，村田順二，高分子電解質を用いた電気化学インプリント技術の開発 —ロール電極の適用による大面積化—，精密工学会秋季大会学術講演会，2021年
  32. 門田紳司，村中紘輝，村田順二，表面化学組成制御カルボニル鉄粉による磁気援用研磨特性，精密工学会秋季大会学術講演会，2021年
  33. 辻淳喜，JIA Pengfei，村田順二，高分子電解質を用いた電解援用研磨法の開発—難加工金属の平滑化への適用—，2021年度精密工学会秋季大会学術講演会，2021年
  34. 村田順二，石丸太一，山﨑小有里，天然由来結合剤を用いた酸化セリウム固定砥粒パッドによるガラス研磨特性，2021年度砥粒加工学会学術講演会，2021年
  35. 石川隆幸, 村田順二, 小宮沙和，精密研磨への応用を目指した親水/疎水面を有するJanus粒子の作製，精密工学会大会学術講演会講演論文集，2021年
  36. 梅崎凌平, 土田ひなの, 村田順二，高分子電解質を用いた電気化学的インプリントリソグラフィ技術の開発，精密工学会大会学術講演会講演論文集，2021年
  37. JIA Pengfei, 梅崎凌平, 村田順二，高分子電解質を用いたTiの電気化学的表面改質，精密工学会大会学術講演会講演論文集，2021年
  38. 巴山顕真, CHE Nor Syahirah Binti Che Zulkifle, 村田順二，高分子電解質を用いたワイドギャップ半導体の高能率電解複合研磨，精密工学会大会学術講演会講演論文集，2021年
  39. J. Murata, Y. Nishiguchi, Liquid-electrolyte-free electrochemical surface finishing of GaN surface using a solid polymer electrolyte, Int. Conf. Prec. Eng. (2020)
  40. R. Umezaki, J. Murata, Microstructure fabrication method using a novel electrolyte-free electrochemical treatment with patterned polymer electrolyte membranes, Int. Conf. Prec. Eng. (2020)

受賞

※2019年度以降のみ掲載

  1. 辻淳喜, 「個体電解質のイオン輸送を用いたCuの全固相電気化学パターニングにおける加工条件の影響」，ベストポスタープレゼンテーション賞，2023年度精密工学会秋季大会学術講演会
  2. 山﨑克真, 「高分子電解質膜を用いた電気化学インプリントの開発－アルカリエッチングの併用による微細構造制御－」，ベストポスタープレゼンテーション賞，2023年度関西地方定期学術講演会
  3. 辻淳喜, 「固体電解質のイオン輸送を利用したCuエッチングによる微細パターニング」，ベストポスタープレゼンテーション賞，2023年度関西地方定期学術講演会
  4. 山﨑克真, 「高分子電解質膜を用いた電気化学インプリントの開発－アルカリエッチングの併用による微細構造制御－」，ベストプレゼンテーション賞，2023年度精密工学会春季大会学術講演会
  5. Junji Murata, Kenshin Hayama, Atsuki Tsuji，Electrochemical mechanical polishing using solid polymer electrolyte，Best Paper Award，ICPE2022
  6. 稲田直希，「高分子電解質を用いた半固定砥粒パッドによるSicのECMP特性」，ベストポスタープレゼンテーション賞，2022年度精密工学会関西地方定期学術講演会
  7. 稲石翔馬，「磁性を有するハイブリッド研磨粒子の作製とサファイアの磁気援用研磨特性」，ベストプレゼンテーション賞，2022年度精密工学会春季大会学術講演会
  8. 土田ひなの，「電解液を用いない電解加工-アルカリエッチングの併用によるパターン形成-」，ベストプレゼンテーション賞，2022年度精密工学会春季大会学術講演会
  9. 村田順二，「砥粒の滞留性に着目した微粒子添加ラッピングによる研磨特性の向上」，砥粒加工学会賞論文賞，砥粒加工学会
  10. 森本英太，「高分子電解質を用いた電気化学インプリント技術の開発 ―ロール電極の適用による大面積化― 」，ベストプレゼンテーション賞，2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
  11. 土田ひなの，「高分子電解質膜を用いた電解援用パターニングとその加工条件の影響」，ベストポスタープレゼンテーション賞，2021年度精密工学会関西地方定期学術講演会
  12. 梅崎凌平，「高分子電解質を用いた電気化学的インプリントリソグラフィ技術の開発」，ベストプレゼンテーション賞，2021年度精密工学会春季大会学術講演会
  13. 巴山顕真，「高分子電解質を用いたワイドギャップ半導体の高能率電解複合研磨」，ベストプレゼンテーション賞，2021年度精密工学会春季大会学術講演会