立命館大学にて2025年1月31日～2月1日に開催された国際シンポジウムSoft/Hard2025にて4回生の阪くん、西邨くん、箱崎くん、美濃羽くんがポスター発表、D1の辻くんがYoung Scientists’ Invited Presentationsにて口頭発表を行いました。

ポスター発表

• Ryota Saka, “All solid phase pattern electroplating for forming patterned Cu thin film using polymer electrolyte membrane stamp“
• Kosuke Nishimura, “Search for suitable solid-phase anode dissolution conditions for deep drilling and penetration of Cu foil“
• Daishi Hakozaki, “Mask-less soft lithography for fabricating micro- nano Ag structures via solid-state electrochemical etching using polymer electrolyte membrane“
• Masashi Minoha, “Effects of Abrasives on Polishing Characteristics in Environmentally Friendly ECMP for SiC Wafer“

ポスター発表した4人の4回生

4人のポスターには多くの方が来て下さり中身の濃い議論が行われていました。学内でのシンポジウムということもあり、日本語での説明もありましたが、外国から来られた参加者に対して英語で説明する機会も少なからずあったようです。英語でのプレゼンについても、事前に原稿を作るなどしてしっかり準備していたようです。

終了後には4人から、「英語を勉強せなあかん」との発言も聞かれ、今回4年生ながらに参加したことの意義が十分にあったことでしょう👏👏👏

Young Scientists’ Invited Presentations

• Atsuki Tsuji, “Solid-State Electrochemical Imprinting with Polymer Electrolyte Membrane Stamps for Functional Microstructure on Copper Surface“

Young Scientists’ Invited Presentationsにてプレゼン中の辻くん

2月1日にはYoung Scientists’ Invited Presentationsにて辻くんが口頭発表。今年度に入り、英語での口頭発表は3回目でした。このような機会を通じて英語でのプレゼン技術を高めてほしいと思います。

シンポジウム終了後には参加者でささやかな打ち上げを行い、互いの労をねぎらいました。

打ち上げ（2次会）の様子

今回は自ら「英語を勉強するきっかけにしたい」と志願して発表を申し込んだ4回生もいました。英語でのポスター制作やプレゼンなど、初めての経験で大変だったかと思いますが、参加した者にしか得られない成長（得てして本人も気付かないのですが）は確実にあります。この経験を基に他の学生も巻き込んで飛躍していってほしいと願っています。